黄仁勋称Blackwell芯片曾存在设计缺陷:靠台积电力挽狂澜!

黄仁勋称Blackwell芯片曾存在设计缺陷:靠台积电力挽狂澜!

10月23日讯 英伟达 CEO 黄仁勋于当地时间周三在访问丹麦时表示:该公司最新的 Blackwell 芯片曾存在设计缺陷,“Blackwell 芯片可以正常使用,但良率很低。”他还表示,这一缺陷“100% 是英伟达的错”,后来全靠台积电的协助才得以从这一挫折中恢复过来,并“以惊人的速度”恢复工作。除此之外,他还提到欧盟在 AI 投资方面远远落后于美国和中国。值得一提的是,黄仁勋在丹麦...
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